이번 글에서는 EUV 관련주 TOP 5 관련 정보에 대해 알아보도록 하겠습니다. 국내, 미국, 해외, 테마주, ETF 등 EUV 대장주 정보가 궁금하신 분들은 아래 설명드리는 내용들 잘 참고하시어 활용하시길 바랍니다.
EUV 관련주 TOP 5
EUV(극자외선) 리소그래피는 반도체 미세 공정에서 핵심 기술로 자리 잡고 있습니다. 기존의 불화아르곤(ArF) 기반 노광 기술은 193nm 파장을 사용하지만, EUV는 13.5nm의 짧은 파장을 활용하여 더욱 미세하고 정교한 회로 패턴을 구현할 수 있는데요. 이는 반도체의 집적도와 성능을 극대화할 수 있을 뿐만 아니라 공정 단순화와 비용 절감에도 크게 기여하는 효과가 있습니다.
특히 최근 삼성전자와 TSMC 같은 글로벌 반도체 기업들이 7nm 이하의 공정에서 EUV 기술을 본격적으로 도입하면서 관련된 국내 기업들도 함꼐 크게 주목받고 있습니다. 이러한 트렌드에 따라 아래에서는 EUV 기술의 발전과 함께 성장하고 있는 국내 주요 기업 5곳에 대해 구체적으로 알아보도록 하겠습니다.
EUV 관련주: 에프에스티
| 단위: 억 원 | 2021년 | 2022년 | 2023년 |
| 매출 | 2,137 | 2,196 | 1,976 |
| 매출원가 | 1,317 | 1,414 | 1,313 |
| 매출총이익 | 819 | 782 | 663 |
| 판관비 | 593 | 719 | 771 |
| 영업이익 | 226 | 63 | -108 |
에프에스티는 반도체 노광 공정에서 필수적으로 사용되는 펠리클과 칠러를 전문적으로 생산하는 기업입니다. 펠리클은 포토마스크를 보호하는 투명하고 얇은 막으로 EUV 노광 공정에서는 더 높은 기술력을 요구하는데요. 기존의 ArF 펠리클은 193nm의 파장에서 높은 투과율을 제공하지만, EUV 공정에서는 13.5nm의 파장으로 투과율을 극대화하는 펠리클이 필요합니다. 에프에스티는 이러한 고도의 기술력을 바탕으로 EUV 펠리클을 개발하였으며 삼성전자에 공급하면서 기술력을 입증했습니다.
EUV 펠리클은 노광 공정의 핵심 기술로 미세한 회로를 더욱 정교하게 패터닝하기 위해 이물질이 마스크에 닿는 것을 방지합니다. 이는 생산 수율을 극대화하는 데 중요한 역할을 합니다. 또한 에프에스티의 칠러는 노광 장비와 반도체 공정 장비의 온도를 일정하게 유지하는 역할을 하며 정밀한 온도 제어를 통해 공정의 안정성과 품질을 높이는 데 기여합니다.
에프에스티는 지속적인 연구개발을 통해 글로벌 경쟁력을 확보하고 있고 EUV 펠리클과 칠러 기술을 고도화하여 향후 글로벌 시장에서 더욱 큰 성장을 기대하고 있습니다. 특히 EUV 공정이 3nm 이하로 확대될수록 펠리클의 수요는 증가할 것으로 보임에 따라 에프에스티는 이러한 시장 변화에 적극적으로 대응하고 있습니다.
EUV 관련주: 에스앤에스텍
| 단위: 억 원 | 2021년 | 2022년 | 2023년 |
| 매출 | 988 | 1,235 | 1,503 |
| 매출원가 | 728 | 897 | 1,037 |
| 매출총이익 | 261 | 339 | 466 |
| 판관비 | 134 | 178 | 216 |
| 영업이익 | 126 | 160 | 250 |
에스앤에스텍은 블랭크 마스크 전문 기업으로 EUV 리소그래피 기술 발전에 중요한 역할을 하고 있습니다. 블랭크 마스크는 포토마스크의 원재료로 회로 패턴을 형성하기 전 기판과 광학 필름으로 구성된 제품입니다. 특히 EUV 공정에서는 기존 마스크보다 높은 투명도와 정밀도가 요구되는데 에스앤에스텍은 EUV용 블랭크 마스크 개발에 성공하며 업계의 선두로 자리 잡았습니다.
EUV용 블랭크 마스크는 기존의 ArF 기반 제품보다 높은 기술력을 필요로 하는데 에스앤에스텍은 90% 이상의 높은 투과율을 자랑하는 제품을 양산 중입니다. 이러한 기술력은 EUV 노광 공정에서 더욱 미세한 회로 패턴을 구현하는 데 기여하며, 삼성전자와 TSMC 같은 주요 반도체 기업들로부터 높은 평가를 받고 있습니다.
에스앤에스텍은 지속적인 연구개발을 통해 블랭크 마스크의 기술력을 고도화하고 있으며 글로벌 시장에서도 경쟁력을 갖춘 기업으로 평가받고 있습니다. 향후 EUV 공정이 더욱 확산됨에 따라 에스앤에스텍의 성장 가능성은 더욱 커질 것으로 보입니다.
EUV 관련주: 파크시스템스
| 단위: 억 원 | 2021년 | 2022년 | 2023년 |
| 매출 | 853 | 1,245 | 1,448 |
| 매출원가 | 301 | 431 | 524 |
| 매출총이익 | 552 | 815 | 924 |
| 판관비 | 376 | 488 | 648 |
| 영업이익 | 176 | 326 | 276 |
파크시스템스는 나노계측 장비 분야에서 세계적인 기술력을 자랑하는 기업입니다. 특히 원자현미경(Atomic Force Microscope, AFM)을 개발하여 반도체 제조 공정의 품질 관리와 정밀도 향상에 기여하고 있습니다. AFM은 미세 구조를 나노미터 수준에서 측정할 수 있는 장비로 EUV 공정에서 중요한 역할을 합니다.
EUV 기술을 활용한 반도체 제조 공정에서는 회로 패턴이 더욱 미세해지기 때문에 표면의 결함이나 불균일성을 정밀하게 측정하고 관리하는 것이 필수적입니다. 파크시스템스의 원자현미경은 이러한 요구에 맞추어 높은 해상도와 정밀도를 제공하며 반도체 제조사들의 공정 개선과 품질 보증에 중요한 도구로 사용됩니다.
파크시스템스는 삼성전자, 인텔, TSMC와 같은 글로벌 반도체 기업들과 협력하며, EUV 공정에 최적화된 계측 솔루션을 제공하고 있습니다. 지속적인 기술 개발과 글로벌 네트워크를 바탕으로 파크시스템스는 EUV 리소그래피 시장에서 독보적인 경쟁력을 확보하고 있습니다. EUV 공정이 확대될수록 정밀한 계측 장비에 대한 수요는 더욱 증가할 것으로 보임에 따라 파크시스템스의 시장 지배력도 강화될 것으로 예상됩니다.
EUV 관련주: 디바이스이엔지
| 단위: 억 원 | 2021년 | 2022년 | 2023년 |
| 매출 | 1,251 | 727 | 572 |
| 매출원가 | 761 | 548 | 451 |
| 매출총이익 | 490 | 179 | 121 |
| 판관비 | 131 | 46 | 78 |
| 영업이익 | 358 | 133 | 43 |
디바이스이엔지는 반도체 및 디스플레이 공정에서 필수적인 세정 장비를 개발하고 공급하는 기업입니다. 반도체 제조 공정에서는 회로 패턴 형성 후 웨이퍼 표면의 불순물을 제거하고 청정도를 유지하는 세정 공정이 매우 중요합니다. 특히 EUV 공정에서는 미세 회로 패턴의 정밀도를 보장하기 위해 더욱 철저한 세정 기술이 필요합니다.
디바이스이엔지는 삼성전자의 화성 EUV 라인에 풋 세정 장비를 공급하면서 EUV 공정 기술력의 핵심 파트너로 자리 잡았습니다. 풋 세정 장비는 웨이퍼의 표면을 균일하게 세정하여 공정 불량률을 최소화하고 생산 수율을 극대화하는 데 기여합니다. 이러한 장비는 EUV 공정에서 더욱 정교하고 효율적인 세정 공정을 가능하게 하는데 이는 반도체의 품질과 성능을 높이는 데 핵심 역할을 합니다.
디바이스이엔지는 세정 장비의 기술력을 지속적으로 발전시키며 EUV 공정 확산에 따른 수요 증가에 대응하고 있습니다. 특히 반도체 미세화가 가속화될수록 세정 장비의 중요성은 더욱 부각될 것이며 이에 따라 디바이스이엔지는 글로벌 시장에서도 성장 가능성이 높은 기업으로 평가받고 있습니다.
EUV 관련주: 디엔에프
| 단위: 억 원 | 2021년 | 2022년 | 2023년 |
| 매출 | 870 | 969 | 842 |
| 매출원가 | 584 | 643 | 682 |
| 매출총이익 | 286 | 326 | 160 |
| 판관비 | 175 | 165 | 189 |
| 영업이익 | 111 | 161 | -29 |
디엔에프는 반도체 및 디스플레이 공정에서 필수적인 박막 재료를 전문적으로 생산하는 기업입니다. 특히 EUV 공정에서 사용되는 건식 포토레지스트 전구체를 개발하여 주목받고 있습니다. 포토레지스트는 노광 공정에서 회로 패턴을 형성하는 감광 물질로 EUV 공정에서는 더욱 높은 정밀도와 성능이 요구됩니다.
디엔에프는 고품질의 건식 포토레지스트 전구체를 통해 EUV 공정의 안정성과 효율성을 높이는 데 기여하고 있습니다. 건식 공정은 기존 습식 공정보다 균일한 박막 형성이 가능하며 미세한 회로 패턴을 구현하는 데 유리합니다. 이러한 기술력으로 디엔에프는 삼성전자와 같은 글로벌 반도체 기업들에게 핵심 소재를 공급하고 있고 기술력을 바탕으로 시장 점유율을 확대하고 있습니다.
EUV 공정이 5nm 이하로 진입하면서 포토레지스트 소재의 성능은 더욱 중요해지고 있는만큼 디엔에프는 지속적인 연구개발을 통해 고성능 소재를 제공하고 있습니다. 향후 EUV 공정의 확산과 함께 디엔에프의 성장세는 더욱 가속화될 것으로 보입니다.
EUV 대장주 외 참고 자료
The Billionist에서는 주요 테마주, 관련주 정보들을 정리해서 올리고 있습니다. 로봇 관련주를 포함하여 최근 떠오르는 주요 테마주, 관련주 정보들이 궁금하신 분들은 아래 글들도 함께 확인을 해보시면 좋겠죠?
EUV 대장주 마무리
이처럼 에프에스티, 에스앤에스텍, 파크시스템스, 디바이스이엔지, 디엔에프는 EUV 기술 발전과 함께 반도체 산업의 핵심 기업으로 자리 잡고 있습니다. 이들은 각각 펠리클, 블랭크 마스크, 계측 장비, 세정 장비, 박막 재료와 같은 공정 핵심 분야에서 기술력을 입증하며 글로벌 시장에서 경쟁력을 강화하고 있습니다. 앞으로도 EUV 공정의 확산과 함께 이러한 기업들의 성장은 지속될 것이며 반도체 산업의 발전에 중요한 역할을 하게 될 것으로 기대되고 있습니다.
이번 글에서는 EUV 관련주 TOP 5 관련 정보에 대해 함께 살펴보았습니다. 말씀드린 EUV 대장주 관련 내용들 참고하시어 현명한 투자하시는데 잘 활용하시길 바랍니다.